دانشمندان ژاپنی به فناوری جدیدی در تولید تراشه دست یافته اند که می تواند هزینه ها را به میزان قابل توجهی کاهش دهد. فناوری لیتوگرافی انقلابی ماوراء بنفش (EUV) از چندین آینه برای رساندن نور به سیلیکون استفاده می کند و مصرف انرژی را تا یک دهم کاهش می دهد. جزئیات بیشتر را در شهر سخت افزار بخوانید.

دانشمندان مؤسسه علم و فناوری اوکیناوا در ژاپن روش جدیدی را برای ساخت تراشه‌هایی ابداع کرده‌اند که ارزان و با مصرف انرژی بالا هستند. فناوری لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) می تواند مشکلات فعلی دستگاه های UV را بهبود بخشد.

فناوری جدید ژاپنی شامل یک سیستم نوری کارآمد است که از دو آینه استفاده می کند که بسیار ساده تر از دستگاه های UV شش آینه فعلی است. همچنین از یک میدان خطی دوتایی برای هدایت نور به سمت ویفر سیلیکونی استفاده می شود.

طراحی جدید ژاپنی ها در مقایسه با دستگاه های لیتوگرافی UV موجود حدود 90 درصد در مصرف انرژی صرفه جویی می کند و هزینه های عملیاتی دستگاه های لیتوگرافی مورد استفاده در صنعت نیمه هادی ها را کاهش می دهد.

به عبارت دیگر، دستگاه های UV سنتی بیش از یک مگاوات برق مصرف می کنند، در حالی که مدل جدید ژاپنی کمتر از 100 کیلووات برق مصرف می کند. با وجود سادگی طراحی، دستگاه جدید ژاپنی کنتراست بالایی دارد که برای دستیابی به دقت در مقیاس نانومتر در ساخت نیمه هادی بسیار مهم است.

انتظار می‌رود بازار جهانی لیتوگرافی UV از 8.9 میلیارد دلار در سال 2024 به 17.4 میلیارد دلار تا سال 2030 افزایش یابد.

از نظر تجاری، بد نیست بدانید که یک دستگاه ASML EUV می تواند تا 380 میلیون دلار قیمت داشته باشد. علاوه بر این، حدود 40٪ از نور UV در دستگاه های UV از بین می رود و تنها 1٪ از منبع نور اولیه به ویفر سیلیکونی می رسد.

اما در سیستم جدید ژاپنی بیش از 10 درصد انرژی به تراشه می رسد و انتظار می رود مصرف برق به میزان یک دهم کاهش یابد و هزینه این دستگاه کمتر از 100 میلیون دلار برآورد شده است.